Vaš brskalnik ne omogoča JavaScript!
JavaScript je nujen za pravilno delovanje teh spletnih strani. Omogočite JavaScript ali uporabite sodobnejši brskalnik.
|
|
SLO
|
ENG
|
Piškotki in zasebnost
DKUM
EPF - Ekonomsko-poslovna fakulteta
FE - Fakulteta za energetiko
FERI - Fakulteta za elektrotehniko, računalništvo in informatiko
FF - Filozofska fakulteta
FGPA - Fakulteta za gradbeništvo, prometno inženirstvo in arhitekturo
FKBV - Fakulteta za kmetijstvo in biosistemske vede
FKKT - Fakulteta za kemijo in kemijsko tehnologijo
FL - Fakulteta za logistiko
FNM - Fakulteta za naravoslovje in matematiko
FOV - Fakulteta za organizacijske vede
FS - Fakulteta za strojništvo
FT - Fakulteta za turizem
FVV - Fakulteta za varnostne vede
FZV - Fakulteta za zdravstvene vede
MF - Medicinska fakulteta
PEF - Pedagoška fakulteta
PF - Pravna fakulteta
UKM - Univerzitetna knjižnica Maribor
UM - Univerza v Mariboru
UZUM - Univerzitetna založba Univerze v Mariboru
COBISS
Ekonomsko poslovna fakulteta
Fakulteta za kmetijstvo in biosistemske vede
Fakulteta za logistiko
Fakulteta za organizacijske vede
Fakulteta za varnostne vede
Fakulteta za zdravstvene vede
Knjižnica tehniških fakultet
Medicinska fakulteta
Miklošičeva knjižnica - FPNM
Pravna fakulteta
Univerzitetna knjižnica Maribor
Večja pisava
|
Manjša pisava
Uvodnik
Iskanje
Brskanje
Oddaja dela
Statistika
Prijava
Prva stran
>
Izpis gradiva
Izpis gradiva
Naslov:
Nanašanje tankih plasti po metodi curka ioniziranih skupkov, CIS
Avtorji:
ID
Cvikl, Bruno
(Avtor)
Datoteke:
http://www.dlib.si/details/URN:NBN:SI:doc-0LFZLHIN
Jezik:
Slovenski jezik
Vrsta gradiva:
Delo ni kategorizirano
Tipologija:
1.01 - Izvirni znanstveni članek
Organizacija:
FGPA - Fakulteta za gradbeništvo, prometno inženirstvo in arhitekturo
Opis:
V članku je opisan postopek naparjevanja tankih plasti po metodi curka ioniziranih skupkov, ki rabi za nizkotemperaturno nanašanje in epitakso visokokvalitetnih tankih plasti.
Ključne besede:
vakuumska tehnika
,
CIS
,
curek ioniziranih skupkov
,
tanke plasti
Založnik:
Društvo za vakuumsko tehniko Slovenije
Leto izida:
1992
Št. strani:
str. 15-20
Številčenje:
Vol. 29, no. 4
PID:
20.500.12556/DKUM-53419
UDK:
539.216:539.23
COBISS.SI-ID:
4402180
ISSN pri članku:
0351-9716
NUK URN:
URN:SI:UM:DK:BC13DIQJ
Datum objave v DKUM:
10.07.2015
Število ogledov:
2085
Število prenosov:
37
Metapodatki:
Področja:
Ostalo
Citiraj gradivo
Navadno besedilo
BibTeX
EndNote XML
EndNote/Refer
RIS
ABNT
ACM Ref
AMA
APA
Chicago 17th Author-Date
Harvard
IEEE
ISO 690
MLA
Vancouver
:
Kopiraj citat
Skupna ocena:
(0 glasov)
Vaša ocena:
Ocenjevanje je dovoljeno samo
prijavljenim
uporabnikom.
Objavi na:
Postavite miškin kazalec na naslov za izpis povzetka. Klik na naslov izpiše podrobnosti ali sproži prenos.
Gradivo je del revije
Naslov:
Vakuumist
Skrajšan naslov:
Vakuumist
Založnik:
Društvo za vakuumsko tehniko Slovenije
ISSN:
0351-9716
COBISS.SI-ID:
16059650
Sekundarni jezik
Jezik:
Neznan jezik
Naslov:
Ionized cluster beam thin film deposition, ICB.
Opis:
The description of the method for the thermal vacuum evaporation of suitable substance, used for the low temperature deposition and epitaxy of high-qualitythin films by the ionized cluster beam method (ICB), is presented.
Ključne besede:
vacuum techniques
,
ICB
,
ionized cluster beam
,
thin films
Komentarji
Dodaj komentar
Za komentiranje se morate
prijaviti
.
Komentarji (0)
0 - 0 / 0
Ni komentarjev!
Nazaj
